Title :

Photolysis of CF 3 CH 2 CHO in the Presence of O 2 at 248 and 266 nm: Quantum Yields, Products, and Mechanism

Author(s) :

Antiñolo, M. [Auteur]
Universidad de Castilla-La Mancha = University of Castilla-La Mancha [UCLM]
Bettinelli, C. [Auteur]
Jain, C. [Auteur]
Dréan, P. [Auteur]
Laboratoire de Physique des Lasers, Atomes et Molécules - UMR 8523 [PhLAM]
Lemoine, B. [Auteur]
Laboratoire de Physique des Lasers, Atomes et Molécules - UMR 8523 [PhLAM]
Albaladejo, J. [Auteur]
Jimenez, E. [Auteur]
Fittschen, C. [Auteur]
Physicochimie des Processus de Combustion et de l’Atmosphère - UMR 8522 [PC2A]

Journal title :

Journal of Physical Chemistry A

Pages :

10661-10670

Publisher :

American Chemical Society

Publication date :

2013-10-03

ISSN :

1089-5639

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Internationale

Popular science :

Non

Collections :

• Laboratoire de Physique des Lasers, Atomes et Molécules (PhLAM) - UMR 8523

Source :

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