Raman characterization before and after ...
Document type :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Title :
Raman characterization before and after rapid thermal annealing of CeO 2 thin films grown by rf sputtering on (111) Si
Author(s) :
Guhel, Y. [Auteur]
Laboratoire Universitaire des Sciences Appliquées de Cherbourg [LUSAC]
Ta, M. T. [Auteur]
Laboratoire Universitaire des Sciences Appliquées de Cherbourg [LUSAC]
Bernard, J. [Auteur]
Boudart, B. [Auteur]
Laboratoire Universitaire des Sciences Appliquées de Cherbourg [LUSAC]
Pesant, J. C. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Laboratoire Universitaire des Sciences Appliquées de Cherbourg [LUSAC]
Ta, M. T. [Auteur]
Laboratoire Universitaire des Sciences Appliquées de Cherbourg [LUSAC]
Bernard, J. [Auteur]
Boudart, B. [Auteur]
Laboratoire Universitaire des Sciences Appliquées de Cherbourg [LUSAC]
Pesant, J. C. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Journal title :
Journal of Raman Spectroscopy
Pages :
401 - 404
Publisher :
Wiley
Publication date :
2009-04
ISSN :
0377-0486
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Language :
Anglais
Popular science :
Non
Source :
Files
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