Title :

Influence of plasma treatments and SnO2 alloying on the conductive properties of epitaxial Ga2O3 films deposited on C-sapphire by chemical vapor deposition

HAL domain(s) :

Sciences de l'ingénieur [physics]/Matériaux

Language :

Anglais

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL