Regrowth of oxide-embedded amorphous silicon studied with molecular dynamics

Document type :

Article dans une revue scientifique

DOI :

Title :

Author(s) :

Lampin, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Krzeminski, Christophe [Auteur]

Journal title :

Journal of Applied Physics

Pages :

123509-1-5

Publisher :

American Institute of Physics

Publication date :

2011

ISSN :

0021-8979

HAL domain(s) :

Sciences de l'ingénieur [physics]

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Non spécifiée

Popular science :

Non

Collections :

Source :

Regrowth of oxide-embedded amorphous silicon ... BibTeX CSV Excel RIS