Fabrication et caractérisation de MOSFET ...
Document type :
Communication dans un congrès avec actes
Title :
Fabrication et caractérisation de MOSFET In0.53Ga0.47As de type N en technologie auto-aligné et de longueur de grille de 300nm
Author(s) :
Mo, J. [Auteur]
Olivier, A. [Auteur]
Wichmann, Nicolas [Auteur]
Roelens, Yannick [Auteur]
Desplanque, Ludovic [Auteur]
Wallart, Xavier [Auteur]
Danneville, François [Auteur]
Dambrine, Gilles [Auteur]
Martin, F. [Auteur]
Desplats, O. [Auteur]
Bollaert, Sylvain [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Olivier, A. [Auteur]
Wichmann, Nicolas [Auteur]
Roelens, Yannick [Auteur]
Desplanque, Ludovic [Auteur]
Wallart, Xavier [Auteur]
Danneville, François [Auteur]
Dambrine, Gilles [Auteur]
Martin, F. [Auteur]
Desplats, O. [Auteur]
Bollaert, Sylvain [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Conference title :
17èmes Journées Nationales Micro-ondes, JNM 2011
Country :
France
Start date of the conference :
2011
Book title :
Actes des 17èmes Journées Nationales Micro-ondes, JNM 2011
Publisher :
_
Publication date :
2011
Language :
Français
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :