Characterisation of silicon nitride thin ...

Document type :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...): Communication dans un congrès avec actes
Title :
Characterisation of silicon nitride thin films used as stressor liners on CMOS FETs
Author(s) :
Raymond, G. [Auteur]
Morin, Pascal [Auteur]
Devos, Arnaud [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Hess, D.A. [Auteur]
Braccini, M. [Auteur]
Volpi, F. [Auteur]
Conference title :
Proceedings of the Third International Conference on Innovations on Thin Films Processing and Characterisation, ITFPC07
City :
Nancy
Country :
France
Start date of the conference :
2007
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Collections :
Source :
Harvested from HAL