Localized growth and characterisation of ...
Document type :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...): Communication dans un congrès avec actes
Title :
Localized growth and characterisation of silicon nanowires
Author(s) :
Xu, T. [Auteur]
Grandidier, B. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Nys, J.P. [Auteur]
Stiévenard, D. [Auteur]
Cadel, E. [Auteur]
Larde, R. [Auteur]
Pareige, P. [Auteur]
Grandidier, B. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Nys, J.P. [Auteur]
Stiévenard, D. [Auteur]
Cadel, E. [Auteur]
Larde, R. [Auteur]
Pareige, P. [Auteur]
Conference title :
9th International Workshop on Beam Injection Assessment of Microstructures in Semiconductors, BIAMS 2008
City :
Toledo
Country :
Espagne
Start date of the conference :
2008
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :