Selective etching of implanted silicon ...
Document type :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...): Communication dans un congrès avec actes
Title :
Selective etching of implanted silicon dioxide in hydrofluoric acid
Author(s) :
Passi, V. [Auteur]
Lecestre, Aurélie [Auteur]
DUBOIS, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Raskin, J.P. [Auteur]
Lecestre, Aurélie [Auteur]
DUBOIS, Emmanuel [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Raskin, J.P. [Auteur]
Conference title :
34th International Conference on Micro and Nano Engineering, MNE 2008
City :
Athens
Country :
Grèce
Start date of the conference :
2008
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :