Title :

Localized laser thermal annealing of nanometric SiGe layers protected by a dielectric Bragg mirror

Author(s) :

Cammilleri, D. [Auteur]
Fossard, F. [Auteur]
Halbwax, Mathieu [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Manh, C.T. [Auteur]
Yam, V. [Auteur]
Debarre, D. [Auteur]
Boulmer, J. [Auteur]
Bouchier, D. [Auteur]

Journal title :

Thin Solid Films

Pages :

327-330

Publisher :

Elsevier

Publication date :

2008

ISSN :

0040-6090

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Non spécifiée

Popular science :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL