TEM analysis of ion plated HfO2/SiO2 ...
Document type :
Communication dans un congrès avec actes
Title :
TEM analysis of ion plated HfO2/SiO2 multilayers for femtosecond lasers
Author(s) :
Flury, Manuel [Auteur]
Laboratoire Hubert Curien [LHC]
Patriache, Gilles [Auteur]
Laboratoire de photonique et de nanostructures [LPN]
Troadec, david [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Parriaux, Olivier [Auteur]
Laboratoire Hubert Curien [LHC]
Laboratoire Hubert Curien [LHC]
Patriache, Gilles [Auteur]
Laboratoire de photonique et de nanostructures [LPN]
Troadec, david [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Parriaux, Olivier [Auteur]
Laboratoire Hubert Curien [LHC]
Conference title :
7th Symposium SiO2, advanced dielectrics and related devices
City :
Saint-Etienne
Country :
France
Start date of the conference :
2008-07-30
Book title :
7th Symposium SiO2, advanced dielectrics and related devices
Publication date :
2008-07-01
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]/Optique / photonique
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :