Physical properties of RF sputtered ITO ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
Titre :
Physical properties of RF sputtered ITO thin films and annealing effect
Auteur(s) :
Kerkache, L. [Auteur]
Layadi, A. [Auteur]
Dogheche, El Hadj [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Remiens, Denis [Auteur]
Layadi, A. [Auteur]
Dogheche, El Hadj [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Remiens, Denis [Auteur]
Titre de la revue :
Journal of Physics D: Applied Physics
Pagination :
184-189
Éditeur :
IOP Publishing
Date de publication :
2006
ISSN :
0022-3727
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :