An optimal high contrast e-beam lithography ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
Titre :
An optimal high contrast e-beam lithography process for the patterning of dense fin networks
Auteur(s) :
Fruleux, F. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Penaud, J. [Auteur]
DUBOIS, Emmanuel [Auteur]
Francois, M. [Auteur]
Muller, M. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Penaud, J. [Auteur]
DUBOIS, Emmanuel [Auteur]
Francois, M. [Auteur]
Muller, M. [Auteur]
Titre de la revue :
Materials Science and Engineering: C
Pagination :
893-897
Éditeur :
Elsevier
Date de publication :
2006
ISSN :
0928-4931
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :