Streaming and removal forces due to ...
Document type :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Title :
Streaming and removal forces due to second-order sound field during megasonic cleaning of silicon wafers
Author(s) :
Vasseur, Jérôme [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Acoustique - IEMN [ACOUSTIQUE - IEMN]
Deymier, P. [Auteur]
Vasseur, J. [Auteur]
Génie industriel alimentaire [GENIAL]
Khelif, A. [Auteur]
Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174) [FEMTO-ST]
Djafari-Rouhani, Bahram [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Dobrzynski, Leonard [Auteur]
Raghavan, S. [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Acoustique - IEMN [ACOUSTIQUE - IEMN]
Deymier, P. [Auteur]
Vasseur, J. [Auteur]
Génie industriel alimentaire [GENIAL]
Khelif, A. [Auteur]
Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174) [FEMTO-ST]
Djafari-Rouhani, Bahram [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Dobrzynski, Leonard [Auteur]

Raghavan, S. [Auteur]
Journal title :
Journal of Applied Physics
Pages :
6821-6835
Publisher :
American Institute of Physics
Publication date :
2000-12
ISSN :
0021-8979
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Physique [physics]
Physique [physics]
Language :
Anglais
Popular science :
Non
Source :