Titre :

Inkjet printed flexible transmission lines for high frequency applications up to 67 GHz

Auteur(s) :

Belhaj, Mohamed Moez [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Wei, Wei [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Pallecchi, Emiliano [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Mismer, Colin [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Roch-Jeune, Isabelle [Auteur]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Happy, Henri [Auteur]
Carbon - IEMN [CARBON - IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Titre de la manifestation scientifique :

44th European Microwave Conference and 9th European Microwave Integrated Circuits Conference, EuMC/EuMIC 2014

Ville :

Rome

Pays :

Italie

Date de début de la manifestation scientifique :

2014-10-06

Titre de l’ouvrage :

2014 44th European Microwave Conference

Éditeur :

IEEE

Date de publication :

2014

Discipline(s) HAL :

Sciences de l'ingénieur [physics]

Résumé en anglais : [en]

This letter introduces radio frequency(RF) characterization of ink-jet printed coplanar waveguides (CPW) with and without strain. Kapton is selected as flexible substrate with different sintering temperature. With optimized ...
Lire la suite >This letter introduces radio frequency(RF) characterization of ink-jet printed coplanar waveguides (CPW) with and without strain. Kapton is selected as flexible substrate with different sintering temperature. With optimized inkjet printing parameters, well defined patterns with high resolution yield low attenuation constant even when operated up to 67GHz. Finally, we demonstrate that the RF performance of CPW is barely affected by bending.Lire moins >

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Internationale

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL