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Ultra-high areal capacitance and high rate ...
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Document type :
Article dans une revue scientifique
DOI :
10.1016/j.ensm.2021.07.038
Permalink :
http://hdl.handle.net/20.500.12210/57271
Title :
Ultra-high areal capacitance and high rate capability RuO2 thin film electrodes for 3D micro-supercapacitors
Author(s) :
Asbani, Bouchra [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Buvat, Gaetan [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Freixas, Jeremy [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Institut des Matériaux Jean Rouxel [IMN]
Huvé, Marielle [Auteur]
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Troadec, david [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Roussel, Pascal [Auteur] refId
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Brousse, Thierry [Auteur]
Institut des Matériaux Jean Rouxel [IMN]
Lethien, Christophe [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Institut Universitaire de France [IUF]
Journal title :
Energy Storage Materials
Pages :
259-267
Publisher :
Elsevier
Publication date :
2021-11
ISSN :
2405-8297
HAL domain(s) :
Physique [physics]/Matière Condensée [cond-mat]/Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Internationale
Popular science :
Non
Collections :
  • Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520
Source :
Harvested from HAL
Submission date :
2021-11-13T05:07:32Z
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