In-plane InGaAs/Ga(As)Sb nanowire based ...
Document type :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Title :
In-plane InGaAs/Ga(As)Sb nanowire based tunnel junctions grown by selective area molecular beam epitaxy
Author(s) :
Bucamp, Alexandre [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
EPItaxie et PHYsique des hétérostructures - IEMN [EPIPHY - IEMN]
Coinon, Christophe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]
Lepilliet, sl [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Plateforme de Caractérisation Multi-Physiques - IEMN [PCMP - IEMN]
Troadec, David [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]
Patriarche, Gilles [Auteur]
Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies [C2N]
Diallo, M [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Plateforme de Caractérisation Multi-Physiques - IEMN [PCMP - IEMN]
Avramovic, Vanessa [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Plateforme de Caractérisation Multi-Physiques - IEMN [PCMP - IEMN]
Haddadi, Kamel [Auteur]
Circuits Systèmes Applications des Micro-ondes - IEMN [CSAM - IEMN ]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Wallart, Xavier [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
EPItaxie et PHYsique des hétérostructures - IEMN [EPIPHY - IEMN]
Desplanque, Ludovic [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
EPItaxie et PHYsique des hétérostructures - IEMN [EPIPHY - IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
EPItaxie et PHYsique des hétérostructures - IEMN [EPIPHY - IEMN]
Coinon, Christophe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
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Lepilliet, sl [Auteur]
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Troadec, David [Auteur]

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Diallo, M [Auteur]
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Avramovic, Vanessa [Auteur]
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Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Wallart, Xavier [Auteur]

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EPItaxie et PHYsique des hétérostructures - IEMN [EPIPHY - IEMN]
Desplanque, Ludovic [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
EPItaxie et PHYsique des hétérostructures - IEMN [EPIPHY - IEMN]
Journal title :
Nanotechnology
Pages :
145201
Publisher :
Institute of Physics
Publication date :
2022
ISSN :
0957-4484
English keyword(s) :
selective area growth
molecular beam epitaxy
in-plane nanowire
Esaki tunnel diodes
molecular beam epitaxy
in-plane nanowire
Esaki tunnel diodes
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]/Micro et nanotechnologies/Microélectronique
English abstract : [en]
In-plane InGaAs/Ga(As)Sb heterojunction tunnel diodes are fabricated by selective area molecular beam epitaxy with two different architectures: either radial InGaAs core/Ga(As)Sb shell nanowires or axial InGaAs/GaSb ...
Show more >In-plane InGaAs/Ga(As)Sb heterojunction tunnel diodes are fabricated by selective area molecular beam epitaxy with two different architectures: either radial InGaAs core/Ga(As)Sb shell nanowires or axial InGaAs/GaSb heterojunctions. In the former case, we unveil the impact of strain relaxation and alloy composition fluctuations at the nanoscale on the tunneling properties of the diodes, whereas in the latter case we demonstrate that template assisted molecular beam epitaxy can be used to achieve a very precise control of tunnel diodes dimensions at the nanoscale with a scalable process. In both cases, negative differential resistances with large peak current densities are achieved.Show less >
Show more >In-plane InGaAs/Ga(As)Sb heterojunction tunnel diodes are fabricated by selective area molecular beam epitaxy with two different architectures: either radial InGaAs core/Ga(As)Sb shell nanowires or axial InGaAs/GaSb heterojunctions. In the former case, we unveil the impact of strain relaxation and alloy composition fluctuations at the nanoscale on the tunneling properties of the diodes, whereas in the latter case we demonstrate that template assisted molecular beam epitaxy can be used to achieve a very precise control of tunnel diodes dimensions at the nanoscale with a scalable process. In both cases, negative differential resistances with large peak current densities are achieved.Show less >
Language :
Anglais
Popular science :
Non
Source :
Files
- https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-03547003/document
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- Manuscript%20In-plane%20tunnel%20diodes%20by%20SAG.docx.pdf
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