High-frequency four noise parameters of ...
Document type :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Title :
High-frequency four noise parameters of silicon-on-insulator-based technology MOSFET for the design of low-noise RF integrated circuits
Author(s) :
Dambrine, Gilles [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Raskin, J.-P. [Auteur]
Université Catholique de Louvain = Catholic University of Louvain [UCL]
Danneville, François [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Vanhoenackel Janvier, D. [Auteur]
Colinge, J.-P. [Auteur]
Cappy, Alain [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Raskin, J.-P. [Auteur]
Université Catholique de Louvain = Catholic University of Louvain [UCL]
Danneville, François [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Vanhoenackel Janvier, D. [Auteur]
Colinge, J.-P. [Auteur]
Cappy, Alain [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Journal title :
IEEE Transactions on Electron Devices
Pages :
1733-1741
Publisher :
Institute of Electrical and Electronics Engineers
Publication date :
1999
ISSN :
0018-9383
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Language :
Anglais
Popular science :
Non
Source :