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Application de la gravure plasma à la ...
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Type de document :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...)
Titre :
Application de la gravure plasma à la réalisation des composants micro-nanoélectroniques à base du Si au sein de la centrale technologique de l’IEMN
Auteur(s) :
Yarekha, Dmitri [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]
Titre de la manifestation scientifique :
Colloque LN2
Ville :
Autrans
Pays :
France
Date de début de la manifestation scientifique :
2018-07
Date de publication :
2018
Mot(s)-clé(s) en anglais :
Dry etching
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Langue :
Français
Comité de lecture :
Non
Audience :
Nationale
Vulgarisation :
Non
Collections :
  • Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520
Source :
Harvested from HAL
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