A controllable wet-etching method to ...
Type de document :
Communication dans un congrès avec actes: Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...)
Titre :
A controllable wet-etching method to fabricate high-frequency ZnO ultrasonic arrays
Auteur(s) :
Zhang, Jin-Ying [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Transduction, Propagation et Imagerie Acoustique - IEMN [TPIA - IEMN]
Xu, Wei Jiang [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Transduction, Propagation et Imagerie Acoustique - IEMN [TPIA - IEMN]
Han, G. [Auteur]
Carlier, Julien [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Ji, X.M. [Auteur]
Chen, S.M. [Auteur]
Xu, B. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Transduction, Propagation et Imagerie Acoustique - IEMN [TPIA - IEMN]
Xu, Wei Jiang [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Transduction, Propagation et Imagerie Acoustique - IEMN [TPIA - IEMN]
Han, G. [Auteur]
Carlier, Julien [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Ji, X.M. [Auteur]
Chen, S.M. [Auteur]
Xu, B. [Auteur]
Titre de la manifestation scientifique :
International Congress on Ultrasonics, ICU 2013
Ville :
Singapoure
Pays :
Singapour
Date de début de la manifestation scientifique :
2013-05-02
Date de publication :
2013
Mot(s)-clé(s) en anglais :
high frequency
ultrasonic linear array
ZnO film
wet etching
finite element method
ultrasonic linear array
ZnO film
wet etching
finite element method
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Résumé en anglais : [en]
A controllable wet-chemical etching method is presented to fabricate thick-film ZnO-based ultrasonic transducer arrays. The wet-chemical etchant is NH4Cl aqueous solution with a concentration of 10 wt% and the etching rate ...
Lire la suite >A controllable wet-chemical etching method is presented to fabricate thick-film ZnO-based ultrasonic transducer arrays. The wet-chemical etchant is NH4Cl aqueous solution with a concentration of 10 wt% and the etching rate is 60 nm/min at room temperature. A ZnO array is achieved due to a small ratio (0.25) of lateral etching to vertical etching. This novel etching method provides a possibility to acquire a pitch of a λ in a 300 MHz array.Lire moins >
Lire la suite >A controllable wet-chemical etching method is presented to fabricate thick-film ZnO-based ultrasonic transducer arrays. The wet-chemical etchant is NH4Cl aqueous solution with a concentration of 10 wt% and the etching rate is 60 nm/min at room temperature. A ZnO array is achieved due to a small ratio (0.25) of lateral etching to vertical etching. This novel etching method provides a possibility to acquire a pitch of a λ in a 300 MHz array.Lire moins >
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Internationale
Vulgarisation :
Non
Source :