Title :

Refractive Index Modification in Thin Film Barium Titanate-on-Insulator and Dry Etch Free Fabrication of Waveguide Devices

Author(s) :

Cao, Yu [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Lin, Hong-Lin [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Liang, Haidong [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Bettiol, Andrew [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Dogheche, El Hadj [Auteur]
Université Polytechnique Hauts-de-France [UPHF]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - Département Opto-Acousto-Électronique - UMR 8520 [IEMN-DOAE]
Danner, Aaron [Auteur]
National University of Singapore [NUS]

Conference title :

2023 IEEE Photonics Conference (IPC)

City :

Orlando

Country :

Etats-Unis d'Amérique

Start date of the conference :

2023-11-12

Publisher :

IEEE

HAL domain(s) :

Physique [physics]
Sciences de l'ingénieur [physics]

English abstract : [en]

We present refractive index modification methods in thin-film barium titanate-on-insulator with a resultant index change up to 0.17, and propose dry etch free device fabrication methods for optical waveguide devices.We present refractive index modification methods in thin-film barium titanate-on-insulator with a resultant index change up to 0.17, and propose dry etch free device fabrication methods for optical waveguide devices.Show less >

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Internationale

Popular science :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL