Revisited RF compact model of gate resistance ...

Document type :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
10.1109/TED.2012.2225146
Title :
Revisited RF compact model of gate resistance suitable for high-K/metal gate technology
Author(s) :
Dormieu, B. [Auteur]
Scheer, P. [Auteur]
Charbuillet, C. [Auteur]
Jaouen, H. [Auteur]
Danneville, François [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Journal title :
IEEE Transactions on Electron Devices
Pages :
13-19
Publisher :
Institute of Electrical and Electronics Engineers
Publication date :
2013
ISSN :
0018-9383
Language :
Anglais
Popular science :
Non
Collections :
Source :
Harvested from HAL