Metallic source/drain for advanced MOS ...
Document type :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...): Communication dans un congrès avec actes
Title :
Metallic source/drain for advanced MOS architectures : from material engineering to device integration
Author(s) :
DUBOIS, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Larrieu, G. [Auteur]
Breil, N. [Auteur]
Valentin, R. [Auteur]
Danneville, François [Auteur]
Yarekha, Dmitri [Auteur]
Reckinger, N. [Auteur]
Tang, Xing [Auteur]
Halimaoui, A. [Auteur]
Rengel, R. [Auteur]
Pascual, E. [Auteur]
Pouydebasque, A. [Auteur]
Wallart, Xavier [Auteur]
Godey, Sylvie [Auteur]
Ratajczak, J. [Auteur]
Laszcz, A. [Auteur]
Katcki, J. [Auteur]
Raskin, J.P. [Auteur]
Dambrine, Gilles [Auteur]
Cros, A. [Auteur]
Skotnicki, T. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Larrieu, G. [Auteur]
Breil, N. [Auteur]
Valentin, R. [Auteur]
Danneville, François [Auteur]
Yarekha, Dmitri [Auteur]
Reckinger, N. [Auteur]
Tang, Xing [Auteur]
Halimaoui, A. [Auteur]
Rengel, R. [Auteur]
Pascual, E. [Auteur]
Pouydebasque, A. [Auteur]
Wallart, Xavier [Auteur]
Godey, Sylvie [Auteur]
Ratajczak, J. [Auteur]
Laszcz, A. [Auteur]
Katcki, J. [Auteur]
Raskin, J.P. [Auteur]
Dambrine, Gilles [Auteur]
Cros, A. [Auteur]
Skotnicki, T. [Auteur]
Conference title :
SINANO-NANOSIL Workshop, Silicon-based CMOS and Beyond-CMOS Nanodevices
City :
Athens
Country :
Grèce
Start date of the conference :
2009
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :