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Selective area growth of GaN-based structures ...
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Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
10.1016/j.mssp.2009.07.003
Titre :
Selective area growth of GaN-based structures by molecular beam epitaxy on micrometer and nanometer size patterns
Auteur(s) :
Cordier, Yvon [Auteur]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Semond, Fabrice [Auteur]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Moreno, Jean-Christophe [Auteur]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Frayssinet, Éric [Auteur]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Benbakhti, Brahim [Auteur]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Cao, Z. [Auteur]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Chenot, Sébastien [Auteur]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Nguyen, Lee [Auteur]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Tottereau, Olivier [Auteur]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Soltani, Ali [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Blary, Karine [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Titre de la revue :
Materials Science in Semiconductor Processing
Pagination :
16-20
Éditeur :
Elsevier
Date de publication :
2009
ISSN :
1369-8001
Mot(s)-clé(s) en anglais :
Molecular beam epitaxy
Nitrides
Selective area epitaxy
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Résumé en anglais : [en]
In this work, we describe the main features of selective area growth (SAG) of GaN by molecular beam epitaxy (MBE) using ammonia. Different schemes such as growth into micrometer and nanometer size windows in Si3N4 dielectric ...
Lire la suite >
In this work, we describe the main features of selective area growth (SAG) of GaN by molecular beam epitaxy (MBE) using ammonia. Different schemes such as growth into micrometer and nanometer size windows in Si3N4 dielectric masks and mesa structures etched on GaN or Silicon substrate are studied.Lire moins >
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Collections :
  • Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520
Source :
Harvested from HAL
Fichiers
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