Title :

Characterisation of silicon nitride thin films used as stressor liners on CMOS FETs

Author(s) :

Raymond, G. [Auteur]
Morin, Pascal [Auteur]
Devos, Arnaud [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Hess, D.A. [Auteur]
Braccini, M. [Auteur]
Volpi, F. [Auteur]

Conference title :

Proceedings of the Third International Conference on Innovations on Thin Films Processing and Characterisation, ITFPC07

City :

Nancy

Country :

France

Start date of the conference :

2007

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Non spécifiée

Popular science :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL