Title :

Photochemical oxidation of hydrogenated boron-doped diamond surfaces

Author(s) :

Boukherroub, Rabah [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Institut de Recherche Interdisciplinaire [Villeneuve d'Ascq] [IRI]
Wallart, Xavier [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Szunerits, Sabine [Auteur]
Laboratoire d'Electrochimie et de Physico-chimie des Matériaux et des Interfaces [LEPMI ]
Marcus, Bernadette [Auteur]
Laboratoire d'Electrochimie et de Physico-chimie des Matériaux et des Interfaces [LEPMI ]
Bouvier, Pierre [Auteur]
Laboratoire d'Electrochimie et de Physico-chimie des Matériaux et des Interfaces [LEPMI ]
Mermoux, Michel [Auteur]
Laboratoire d'Electrochimie et de Physico-chimie des Matériaux et des Interfaces [LEPMI ]

Journal title :

Electrochemistry Communications

Pages :

pp. 937-940

Publisher :

Elsevier

Publication date :

2005-09

ISSN :

1388-2481

English keyword(s) :

Boron-doped polycrystalline diamond
Photochemical oxidation
Electrochemical properties
Surface chemical reactivity

HAL domain(s) :

Chimie/Matériaux

English abstract : [en]

We describe the photochemical oxidation of polycrystalline boron-doped diamond films by UV irradiation in air at room temperature. The reaction generates surface hydroxyl groups that have been coupled with perfluorodecyl ...
Show more >We describe the photochemical oxidation of polycrystalline boron-doped diamond films by UV irradiation in air at room temperature. The reaction generates surface hydroxyl groups that have been coupled with perfluorodecyl trichlorosilane to yield an organic layer covalently attached to the diamond surface. The resulting surfaces were characterized using X-ray photoelectron spectroscopy, contact angle and cyclic voltammetry.Show less >

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Internationale

Popular science :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL