TEM analysis of ion plated HfO2/SiO2 ...

Type de document :
Communication dans un congrès avec actes
Titre :
TEM analysis of ion plated HfO2/SiO2 multilayers for femtosecond lasers
Auteur(s) :
Flury, Manuel [Auteur]
Laboratoire Hubert Curien [LabHC]
Patriache, Gilles [Auteur]
Laboratoire de photonique et de nanostructures [LPN]
Troadec, David [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Parriaux, Olivier [Auteur]
Laboratoire Hubert Curien [LabHC]
Titre de la manifestation scientifique :
7th Symposium SiO2, advanced dielectrics and related devices
Ville :
Saint-Etienne
Pays :
France
Date de début de la manifestation scientifique :
2008-07-30
Titre de l’ouvrage :
7th Symposium SiO2, advanced dielectrics and related devices
Date de publication :
2008-07-01
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]/Optique / photonique
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Vulgarisation :
Non
Collections :
Source :
Harvested from HAL