Physics-based process simulation of ...
Document type :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...): Communication dans un congrès avec actes
Title :
Physics-based process simulation of ultrashallow junctions
Author(s) :
Cowern, N.E.B. [Auteur]
Colombeau, B. [Auteur]
Duffy, R. [Auteur]
Venezia, V. [Auteur]
Dachs, C. [Auteur]
Lindsay, R. [Auteur]
Cristiano, Fuccio [Auteur]
Lampin, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Claverie, Alain [Auteur]
Colombeau, B. [Auteur]
Duffy, R. [Auteur]
Venezia, V. [Auteur]
Dachs, C. [Auteur]
Lindsay, R. [Auteur]
Cristiano, Fuccio [Auteur]
Lampin, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Claverie, Alain [Auteur]
Conference title :
Ultra-Shallow Junctions Worshop
City :
Santa Cruz, CA
Country :
Etats-Unis d'Amérique
Start date of the conference :
2003
Publication date :
2003
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :