Current understanding and modelling of B ...
Type de document :
Communication dans un congrès avec actes
Titre :
Current understanding and modelling of B diffusion and activation anomalies in preamorphized ultra-shallow junctions
Auteur(s) :
Colombeau, Bernard [Auteur]
Smith, A. [Auteur]
Cowern, N.E.B. [Auteur]
Pawlak, B. [Auteur]
Cristiano, Fuccio [Auteur]
Duffy, R. [Auteur]
Claverie, Alain [Auteur]
Ortiz, C.J. [Auteur]
Pichler, P. [Auteur]
Lampin, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Zechner, C. [Auteur]
Smith, A. [Auteur]
Cowern, N.E.B. [Auteur]
Pawlak, B. [Auteur]
Cristiano, Fuccio [Auteur]
Duffy, R. [Auteur]
Claverie, Alain [Auteur]
Ortiz, C.J. [Auteur]
Pichler, P. [Auteur]
Lampin, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Zechner, C. [Auteur]
Date de début de la manifestation scientifique :
2004
Titre de l’ouvrage :
2004 Silicon Front-End Junction Formation-Physics and Technology Symposium - Materials Research Society Symposium Proceedings
Éditeur :
Materials Research Society, Warrendale, PA, USA
Date de publication :
2004
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Vulgarisation :
Non
Source :