Diffusion and activation of dopants in ...
Document type :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
Title :
Diffusion and activation of dopants in silicon and advanced silicon-based materials
Author(s) :
Pichler, P. [Auteur]
Ortiz, C.J. [Auteur]
Colombeau, B. [Auteur]
Cowern, N.E.B. [Auteur]
Lampin, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Uppal, S. [Auteur]
Karunaratne, M.S.A. [Auteur]
Bonar, J.M. [Auteur]
Willoughby, A. [Auteur]
Claverie, Alain [Auteur]
Cristiano, Fuccio [Auteur]
Lerch, W. [Auteur]
Paul, S. [Auteur]
Ortiz, C.J. [Auteur]
Colombeau, B. [Auteur]
Cowern, N.E.B. [Auteur]
Lampin, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Uppal, S. [Auteur]
Karunaratne, M.S.A. [Auteur]
Bonar, J.M. [Auteur]
Willoughby, A. [Auteur]
Claverie, Alain [Auteur]
Cristiano, Fuccio [Auteur]
Lerch, W. [Auteur]
Paul, S. [Auteur]
Journal title :
Physica Scripta
Pages :
89-96
Publisher :
IOP Publishing
Publication date :
2006
ISSN :
0031-8949
Language :
Anglais
Popular science :
Non
Source :