TEM characterisation of the erbium silicide ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
Titre :
TEM characterisation of the erbium silicide formation process using a Pt/Er stack on the silicon-on-insulator substrate
Auteur(s) :
Łaszcz, A. [Auteur]
Katcki, J. [Auteur]
Ratajczak, J. [Auteur]
Tang, Xing [Auteur]
DUBOIS, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Katcki, J. [Auteur]
Ratajczak, J. [Auteur]
Tang, Xing [Auteur]
DUBOIS, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Titre de la revue :
Journal of Microscopy
Pagination :
38-41
Éditeur :
Wiley
Date de publication :
2006
ISSN :
0022-2720
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :