An optimal high contrast e-beam lithography ...
Document type :
Communication dans un congrès avec actes
Title :
An optimal high contrast e-beam lithography process for the patterning of dense fin networks
Author(s) :
Fruleux, F. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Penaud, J. [Auteur]
DUBOIS, Emmanuel [Auteur]
Francois, M. [Auteur]
Muller, M. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Penaud, J. [Auteur]
DUBOIS, Emmanuel [Auteur]
Francois, M. [Auteur]
Muller, M. [Auteur]
Start date of the conference :
2005
Book title :
Proceedings of the 2005 European Materials Research Society Spring Meeting, Current Trends in Nanoscience – from Materials to Applications
Publisher :
European Materials Research Society, Strasbourg, France
Publication date :
2005
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :