Water exclusion at the nanometer scale ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
Titre :
Water exclusion at the nanometer scale provides long term passivation of silicon(111) grafted with alkyl monolayers
Auteur(s) :
Gorostiza, P. [Auteur]
Henry de Villeneuve, C. [Auteur]
Sun, Q.Y. [Auteur]
Sanz, F. [Auteur]
Wallart, Xavier [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Boukherroub, Rabah [Auteur]
Allongue, P. [Auteur]
Henry de Villeneuve, C. [Auteur]
Sun, Q.Y. [Auteur]
Sanz, F. [Auteur]
Wallart, Xavier [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Boukherroub, Rabah [Auteur]
Allongue, P. [Auteur]
Titre de la revue :
Journal of Physical Chemistry B
Pagination :
5576-5585
Éditeur :
American Chemical Society
Date de publication :
2006
ISSN :
1520-6106
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :