Thickness dependent morphology and resistivity ...
Document type :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...): Communication dans un congrès avec actes
Title :
Thickness dependent morphology and resistivity of ultra-thin Al films on Si(111) by molecular beam expitaxy
Author(s) :
Aswal, D.K. [Auteur]
Joshi, N. [Auteur]
Debnath, A.K. [Auteur]
Gupta, S.K. [Auteur]
Vuillaume, D. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Yakhmi, J.V. [Auteur]
Joshi, N. [Auteur]
Debnath, A.K. [Auteur]
Gupta, S.K. [Auteur]
Vuillaume, D. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Yakhmi, J.V. [Auteur]
Conference title :
Trends in NanoTechnology, TNT 2005
City :
Oviedo
Country :
Espagne
Start date of the conference :
2005
Publication date :
2005
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :