Study of Various PhotoResist for Bosch Process

Type de document :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...): Communication dans un congrès avec actes
Titre :
Study of Various PhotoResist for Bosch Process
Auteur(s) :
Pageau, Arnaud [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]
Curley, Garrett [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]
Tilmant, Pascal [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]
Vaurette, Francois [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]
Yarekha, Dmitri [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]
Titre de la manifestation scientifique :
Euronanolab Dry Etch Expert meeting
Ville :
Saclay
Pays :
France
Date de début de la manifestation scientifique :
2019-12
Date de publication :
2019-12
Mot(s)-clé(s) en anglais :
Dry etching
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Non
Audience :
Internationale
Vulgarisation :
Non
Collections :
Source :
Harvested from HAL