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Anisotropic Vapor HF etching of silicon dioxide for Si microstructure release
MICROELECTRONIC ENGINEERING, Elsevier, 01-07-2012, 95, 83-89Compte-rendu et recension critique d'ouvragetexte intégral -
Understanding of the Retarded Oxidation Effects in Silicon Nanostructures
Applied Physics Letters, American Institute of Physics, 2012, 100; 26, 263111Compte-rendu et recension critique d'ouvragetexte intégral