Procédé de dépôt chimique en phase vapeur ...

Type de document :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...): Communication dans un congrès sans actes
URL permanente :
http://hdl.handle.net/20.500.12210/10232
Titre :
Procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma froid basse pression pour le dépôt de revêtements résistants à la corrosion
Auteur(s) :
Esbayou, M [Auteur]
Bentiss, Fouad [Auteur]
Jama, charafeddine [Auteur] refId
Unité Matériaux et Transformations - UMR 8207 [UMET]
Titre de la manifestation scientifique :
2ème édition de la Journée des Jeunes Chercheurs en Génie des Procédés et Energétique
Ville :
Saint Quentin
Pays :
France
Date de début de la manifestation scientifique :
2015-10
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]/Matériaux
Sciences de l'ingénieur [physics]/Génie des procédés
Chimie/Matériaux
Chimie/Polymères
Langue :
Anglais
Audience :
Nationale
Vulgarisation :
Non
Établissement(s) :
Université de Lille
ENSCL
INRA
CNRS
Collections :
Équipe(s) de recherche :
Ingénierie des Systèmes Polymères
Date de dépôt :
2019-05-17T10:07:29Z