Title :

2 W / mm power density of an AlGaN/GaN HEMT grown on free-standing GaN substrate at 40 GHz

Author(s) :

Irekti, Mohamed-Reda [Auteur correspondant]
Puissance - IEMN [PUISSANCE - IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Lesecq, Marie [Auteur]
Puissance - IEMN [PUISSANCE - IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Defrance, N. [Auteur]
Puissance - IEMN [PUISSANCE - IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Okada, Etienne [Auteur]
Plateforme de Caractérisation Multi-Physiques - IEMN [PCMP - IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Frayssinet, Eric [Auteur]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Cordier, Yvon [Auteur]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Tartarin, Jean-Guy [Auteur]
Université Toulouse III - Paul Sabatier [UT3]
de Jaeger, Jean-Claude [Auteur]
Puissance - IEMN [PUISSANCE - IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Journal title :

Semiconductor Science and Technology

Pages :

12LT01

Publisher :

IOP Publishing

Publication date :

2019-12-01

ISSN :

0268-1242

English keyword(s) :

free-standing GaN
hydride vapor phase epitaxy (HVPE)
AlGaN/GaN
high electron mobility transistor (HEMT)
millimeter-wave power density

HAL domain(s) :

Sciences de l'ingénieur [physics]/Micro et nanotechnologies/Microélectronique

English abstract : [en]

In this letter, a record performance at 40 GHz obtained on AlGaN/GaN high electron mobility transistor (HEMT) grown on Hydride Vapor Phase Epitaxy (HVPE) Free-Standing GaN substrate is reported. An output power density of ...
Show more >In this letter, a record performance at 40 GHz obtained on AlGaN/GaN high electron mobility transistor (HEMT) grown on Hydride Vapor Phase Epitaxy (HVPE) Free-Standing GaN substrate is reported. An output power density of 2 W.mm-1 associated with 20.5 % power added efficiency and a linear power gain (Gp) of 4.2 dB is demonstrated for 70 nm gate length device. The device exhibits a maximum DC drain current density of 950 mA.mm-1 and a peak extrinsic transconductance (gm Max) of 300 mS.mm-1 at VDS = 6 V. A 100 GHz maximum intrinsic cutoff frequency fT, and a maximum intrinsic oscillation frequency f Max of 125 GHz are obtained from Sparameters measurement. This performance is very promising for HEMTs grown on Free-Standing GaN substrate.Show less >

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Internationale

Popular science :

Non

ANR Project :

Réseau national sur GaN

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL