Monte Carlo analysis of the dynamic behavior ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
Titre :
Monte Carlo analysis of the dynamic behavior of III–V MOSFETs for low-noise RF applications
Auteur(s) :
Shi, Ming [Auteur]
Institut d'électronique fondamentale [IEF]
Saint-Martin, Jérôme [Auteur]
Institut d'électronique fondamentale [IEF]
Bournel, Arnaud [Auteur]
Institut d'électronique fondamentale [IEF]
Querlioz, Damien [Auteur]
Institut d'électronique fondamentale [IEF]
Wichmann, Nicolas [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bollaert, Sylvain [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Danneville, François [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Dollfus, Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Institut d'électronique fondamentale [IEF]
Saint-Martin, Jérôme [Auteur]
Institut d'électronique fondamentale [IEF]
Bournel, Arnaud [Auteur]
Institut d'électronique fondamentale [IEF]
Querlioz, Damien [Auteur]
Institut d'électronique fondamentale [IEF]
Wichmann, Nicolas [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bollaert, Sylvain [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Danneville, François [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Dollfus, Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Titre de la revue :
Solid-State Electronics
Pagination :
51 - 57
Éditeur :
Elsevier
Date de publication :
2013-09
ISSN :
0038-1101
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]/Micro et nanotechnologies/Microélectronique
Sciences de l'ingénieur [physics]/Electronique
Sciences de l'ingénieur [physics]/Electronique
Résumé en anglais : [en]
III-V Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors (MOSFETs) with a high-j dielectric gate stack are investigated as a possible route to enhance the performance of either microwave or logic circuits with low supply ...
Lire la suite >III-V Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors (MOSFETs) with a high-j dielectric gate stack are investigated as a possible route to enhance the performance of either microwave or logic circuits with low supply voltage (V DD). The intrinsic performance of III-V MOSFETs in both static and dynamic regimes under low V DD is estimated using device Monte Carlo simulation. The characteristics of a Bulk-like and XOI-like III-V MOSFETs are quantitatively assessed and compared in terms of DC transconductance, high frequency performance and noise behavior. Finally, the comparison with Si-based devices shows the potential of III-V nano-MOSFET architectures for high-frequency and low noise application under low operating power.Lire moins >
Lire la suite >III-V Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors (MOSFETs) with a high-j dielectric gate stack are investigated as a possible route to enhance the performance of either microwave or logic circuits with low supply voltage (V DD). The intrinsic performance of III-V MOSFETs in both static and dynamic regimes under low V DD is estimated using device Monte Carlo simulation. The characteristics of a Bulk-like and XOI-like III-V MOSFETs are quantitatively assessed and compared in terms of DC transconductance, high frequency performance and noise behavior. Finally, the comparison with Si-based devices shows the potential of III-V nano-MOSFET architectures for high-frequency and low noise application under low operating power.Lire moins >
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :
Fichiers
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