High frequency and noise performance of GFETs
Document type :
Communication dans un congrès avec actes
Title :
High frequency and noise performance of GFETs
Author(s) :
Wei, W. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Fadil, D. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Deng, Marina [Auteur]
Laboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
Fregonese, S. [Auteur]
Laboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
Zimmer, T. [Auteur]
Laboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
Pallecchi, Emiliano [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Dambrine, Gilles [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Happy, Henri [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Fadil, D. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Deng, Marina [Auteur]
Laboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
Fregonese, S. [Auteur]
Laboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
Zimmer, T. [Auteur]
Laboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
Pallecchi, Emiliano [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Dambrine, Gilles [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Happy, Henri [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Conference title :
2017 International Conference on Noise and Fluctuations (ICNF)
City :
Vilnius
Country :
Lituanie
Start date of the conference :
2017-06-20
Journal title :
Proceedings of International Conference on Noise and Fluctuations (ICNF) 2017
Publisher :
IEEE
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]/Micro et nanotechnologies/Microélectronique
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Internationale
Popular science :
Non
Source :