Uniformity improvement of linear power ...

Document type :
Article dans une revue scientifique
DOI :
10.1002/(SICI)1098-2760(19991105)23:3<192::AID-MOP18>3.0.CO;2-5
Title :
Uniformity improvement of linear power pHEMTs using a very high selective wet etching
Author(s) :
Hue, X. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Boudart, B. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bonte, B. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Crosnier, Y. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Journal title :
MICROWAVE AND OPTICAL TECHNOLOGY LETTERS
Pages :
192 - 194
Publisher :
Wiley
Publication date :
1999-11-05
ISSN :
0895-2477
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Sciences de l'ingénieur [physics]/Electronique
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Internationale
Popular science :
Non
Collections :
Source :
Harvested from HAL
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