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Impact of gate-drain spacing engineering ...
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Document type :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...)
Title :
Impact of gate-drain spacing engineering on DC and noise performance of SiN in-situ passivated InAlGaN/GaN HEMTs
Author(s) :
Rzin, Mehdi [Auteur]
Equipe Electronique - Laboratoire GREYC - UMR6072
Routoure, Jean-Marc [Auteur]
Equipe Electronique - Laboratoire GREYC - UMR6072
Guillet, Bruno [Auteur]
Equipe Electronique - Laboratoire GREYC - UMR6072
Méchin, Laurence [Auteur]
Equipe Electronique - Laboratoire GREYC - UMR6072
Dogmus, Ezgi [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Zegaoui, Malek [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Medjdoub, Farid [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Lacam, Cédric [Auteur]
Alcatel-Thales III-V Lab [III-V Lab]
Gamarra, Piero [Auteur]
Alcatel-Thales III-V Lab [III-V Lab]
Ben-Ammar, Hichem [Auteur]
Centre de recherche sur les Ions, les MAtériaux et la Photonique [CIMAP - UMR 6252]
Chauvat, Marie-Pierre [Auteur]
Centre de recherche sur les Ions, les MAtériaux et la Photonique [CIMAP - UMR 6252]
Morales, Magali [Auteur]
Centre de recherche sur les Ions, les MAtériaux et la Photonique [CIMAP - UMR 6252]
Ruterana, Pierre [Auteur]
Centre de recherche sur les Ions, les MAtériaux et la Photonique [CIMAP - UMR 6252]
Conference title :
EMRS Fall Meeting
City :
Varsovie
Country :
Pologne
Start date of the conference :
2016-09-19
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]/Micro et nanotechnologies/Microélectronique
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Internationale
Popular science :
Non
Collections :
  • Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520
Source :
Harvested from HAL
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