Title :

Polymer film deposition of TMDSO using an Atmospheric Pressure DBD plasmajet

Author(s) :

Vivien, Celine [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Robert, Eric [Auteur]
Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés [GREMI]
Pouvesle, Jean-Michel [Auteur]
Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés [GREMI]
Supiot, Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Conference title :

22nd International Symposium on Plasma Chemistry ISPC 22

Conference organizers(s) :

IPCS

City :

Antwerp

Country :

Belgique

Start date of the conference :

2015-07-05

English keyword(s) :

Plasma Jet and DBD
Plasma Gun
Polymer film deposition
Atmospheric Plasma

HAL domain(s) :

Sciences de l'ingénieur [physics]
Sciences de l'ingénieur [physics]/Plasmas
Sciences de l'ingénieur [physics]/Génie des procédés

English abstract : [en]

The present work deals with plasma polymerisation of TetraMethylDiSilOxanewith a Dielectric Barier Discharge plasma jet at atmospheric pressure. Depending on parameters likevoltage, frequency, carrier gas and monomer ...
Show more >The present work deals with plasma polymerisation of TetraMethylDiSilOxanewith a Dielectric Barier Discharge plasma jet at atmospheric pressure. Depending on parameters likevoltage, frequency, carrier gas and monomer injection, the deposited polymer looks like gelfilm or transparent film with fringes. Deposits are characterized by Fourier Transformed IRspectroscopy and contact angle measurements.Keywords: Atmospheric pressure DBD plasma jet, Low temperature, Plasmapolymerisation, TetraMethylDiSilOxane.Show less >

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Internationale

Popular science :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL