Titre :

Polymer film deposition of TMDSO using an Atmospheric Pressure DBD plasmajet

Auteur(s) :

Vivien, Celine [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Robert, Eric [Auteur]
Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés [GREMI]
Pouvesle, Jean-Michel [Auteur]
Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés [GREMI]
Supiot, Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Titre de la manifestation scientifique :

22nd International Symposium on Plasma Chemistry ISPC 22

Organisateur(s) de la manifestation scientifique :

IPCS

Ville :

Antwerp

Pays :

Belgique

Date de début de la manifestation scientifique :

2015-07-05

Mot(s)-clé(s) en anglais :

Plasma Jet and DBD
Plasma Gun
Polymer film deposition
Atmospheric Plasma

Discipline(s) HAL :

Sciences de l'ingénieur [physics]
Sciences de l'ingénieur [physics]/Plasmas
Sciences de l'ingénieur [physics]/Génie des procédés

Résumé en anglais : [en]

The present work deals with plasma polymerisation of TetraMethylDiSilOxanewith a Dielectric Barier Discharge plasma jet at atmospheric pressure. Depending on parameters likevoltage, frequency, carrier gas and monomer ...
Lire la suite >The present work deals with plasma polymerisation of TetraMethylDiSilOxanewith a Dielectric Barier Discharge plasma jet at atmospheric pressure. Depending on parameters likevoltage, frequency, carrier gas and monomer injection, the deposited polymer looks like gelfilm or transparent film with fringes. Deposits are characterized by Fourier Transformed IRspectroscopy and contact angle measurements.Keywords: Atmospheric pressure DBD plasma jet, Low temperature, Plasmapolymerisation, TetraMethylDiSilOxane.Lire moins >

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Internationale

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL