Titre :

Sheet resistance of multi-layer stacking of silicene

Auteur(s) :

Capiod, Pierre [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Berthe, Maxime [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Resta, Andrea [Auteur]
Synchrotron SOLEIL [SSOLEIL]
de Padova, Paola [Auteur]
Instituto di Struttura della Materia [ISM]
Vogt, Patrick [Auteur]
Technical University of Berlin / Technische Universität Berlin [TUB]
Le Lay, Guy [Auteur]
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille [CINaM]
Grandidier, Bruno [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Titre de la manifestation scientifique :

European Materials Research Society Spring Meeting, E-MRS Spring 2013, Symposium I - The route to post-Si CMOS devices : from high mobility channels to graphene-like 2D nanosheets

Ville :

Strasbourg

Pays :

France

Date de début de la manifestation scientifique :

2013

Discipline(s) HAL :

Sciences de l'ingénieur [physics]

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Internationale

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL