Title :

Sheet resistance of multi-layer stacking of silicene

Author(s) :

Capiod, Pierre [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Berthe, Maxime [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Resta, Andrea [Auteur]
Synchrotron SOLEIL [SSOLEIL]
de Padova, Paola [Auteur]
Vogt, Patrick [Auteur]
Technical University of Berlin / Technische Universität Berlin [TU]
Le Lay, Guy [Auteur]
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille [CINaM]
Grandidier, B. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Conference title :

European Materials Research Society Spring Meeting, E-MRS Spring 2013, Symposium I - The route to post-Si CMOS devices : from high mobility channels to graphene-like 2D nanosheets

City :

Strasbourg

Country :

France

Start date of the conference :

2013

HAL domain(s) :

Sciences de l'ingénieur [physics]

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Internationale

Popular science :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL