Optimization of laser annealing for ...

Document type :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...): Communication dans un congrès avec actes
Title :
Optimization of laser annealing for ultra-shallow junctions realization : characterization of homogeneity by laser beam induced current
Author(s) :
Larmande, Y. [Auteur]
Vervisch, V. [Auteur]
Delaporte, P. [Auteur]
Sarnet, T. [Auteur]
Sentis, M. [Auteur]
Etienne, H. [Auteur]
Torregrosa, F. [Auteur]
Roux, L. [Auteur]
Troadec, david [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Nitsche, S. [Auteur]
Conference title :
European Materials Research Society Spring Meeting, E-MRS Spring 2011, Symposium J : Laser materials processing for micro and nano applications
City :
Nice
Country :
France
Start date of the conference :
2011
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Collections :
Source :
Harvested from HAL