Stress-mediated magnetoelectric memory ...
Document type :
Article dans une revue scientifique
DOI :
Title :
Stress-mediated magnetoelectric memory effect with uni-axial TbCo2/FeCo multilayer on 011-cut PMN-PT ferroelectric relaxor
Author(s) :
Dusch, Yannick [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Tiercelin, Nicolas [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Klimov, A. [Auteur]
Kotelnikov Institute of Radio Engineering and Electronics [IRE]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Giordano, S. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Preobrazhensky, Vladimir [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Pernod, Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Tiercelin, Nicolas [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Klimov, A. [Auteur]
Kotelnikov Institute of Radio Engineering and Electronics [IRE]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Giordano, S. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Preobrazhensky, Vladimir [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Pernod, Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Journal title :
Journal of Applied Physics
Pages :
17C719
Publisher :
American Institute of Physics
Publication date :
2013
ISSN :
0021-8979
HAL domain(s) :
Physique [physics]/Matière Condensée [cond-mat]/Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]
Sciences de l'ingénieur [physics]/Micro et nanotechnologies/Microélectronique
Sciences de l'ingénieur [physics]/Micro et nanotechnologies/Microélectronique
English abstract : [en]
We present here the implementation of a magnetoelectric memory with a voltage driven writing method using a ferroelectric relaxor substrate. The memory point consists of a magnetoelastic element in which two orthogonal ...
Show more >We present here the implementation of a magnetoelectric memory with a voltage driven writing method using a ferroelectric relaxor substrate. The memory point consists of a magnetoelastic element in which two orthogonal stable magnetic states are defined by combining uni-axial anisotropy together with a magnetic polarization in the hard axis direction. Using a ferroelectric relaxor substrate, an anisotropic stress is created in the magnetic element when applying a voltage across electrodes. Because of the inverse magnetostrictive effect, the effective anisotropy of the magnetic element is controlled by the applied voltage and used to switch magnetization from one state to the otherShow less >
Show more >We present here the implementation of a magnetoelectric memory with a voltage driven writing method using a ferroelectric relaxor substrate. The memory point consists of a magnetoelastic element in which two orthogonal stable magnetic states are defined by combining uni-axial anisotropy together with a magnetic polarization in the hard axis direction. Using a ferroelectric relaxor substrate, an anisotropic stress is created in the magnetic element when applying a voltage across electrodes. Because of the inverse magnetostrictive effect, the effective anisotropy of the magnetic element is controlled by the applied voltage and used to switch magnetization from one state to the otherShow less >
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :
Files
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