• English
    • français
  • Aide
  •  | 
  • Contact
  •  | 
  • À Propos
  •  | 
  • Ouvrir une session
  • Portail HAL
  •  | 
  • Pages Pro Chercheurs
  • EN
  •  / 
  • FR
Voir le document 
  •   Accueil de LillOA
  • Liste des unités
  • Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520
  • Voir le document
  •   Accueil de LillOA
  • Liste des unités
  • Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520
  • Voir le document
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Very low effective electromagnetic parameters ...
  • BibTeX
  • CSV
  • Excel
  • RIS

Type de document :
Communication dans un congrès avec actes
DOI :
10.1109/irmmw-THz.2011.6104807
Titre :
Very low effective electromagnetic parameters lenses for the unlicensed 60 GHz band
Auteur(s) :
Navarro-Cia, Miguel [Auteur]
Universidad Pública de Navarra [Espagne] = Public University of Navarra [UPNA]
Beruete, Miguel [Auteur]
Universidad Pública de Navarra [Espagne] = Public University of Navarra [UPNA]
Sorolla, Mario [Auteur]
Universidad Pública de Navarra [Espagne] = Public University of Navarra [UPNA]
Akalin, Tahsin [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Engheta, Nader [Auteur]
Titre de la manifestation scientifique :
36th International Conference on Infrared, Millimeter and THz Waves, IRMMW-THz 2011
Ville :
Houston, TX
Pays :
Etats-Unis d'Amérique
Date de début de la manifestation scientifique :
2011-10-02
Titre de l’ouvrage :
Proceedings of the 36th International Conference on Infrared, Millimeter and THz Waves, IRMMW-THz 2011
Date de publication :
2011
Mot(s)-clé(s) en anglais :
Lenses
Metamaterials
Arrays
Magnetic materials
Electromagnetics
Optical ring resonators
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Résumé en anglais : [en]
In this presentation advances on metallic lenses based on extreme electromagnetic parameters will be shown: either epsilon near zero or epsilon and mu near zero simultaneously. The former is generated by an array of ...
Lire la suite >
In this presentation advances on metallic lenses based on extreme electromagnetic parameters will be shown: either epsilon near zero or epsilon and mu near zero simultaneously. The former is generated by an array of continuous waveguides at cutoff, whereas the latter is composed of stacked subwavelength hole arrays that can be understood as discontinuous waveguides operating below cutoff.Lire moins >
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Internationale
Vulgarisation :
Non
Collections :
  • Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520
Source :
Harvested from HAL
Université de Lille

Mentions légales
Université de Lille © 2017