Comparative study of erbium disilicide ...
Document type :
Article dans une revue scientifique
Title :
Comparative study of erbium disilicide thin films grown in situ under ultrahigh vacuum or ex situ with a capping layer
Author(s) :
Reckinger, N. [Auteur]
Dutu, C.A. [Auteur]
Tang, Xing [Auteur]
Dubois, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Yarekha, Dmitri [Auteur]
Godey, S. [Auteur]
Nougaret, L. [Auteur]
Laszcz, A. [Auteur]
Ratajczak, J. [Auteur]
Raskin, J.P. [Auteur]
Dutu, C.A. [Auteur]
Tang, Xing [Auteur]
Dubois, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Yarekha, Dmitri [Auteur]
Godey, S. [Auteur]
Nougaret, L. [Auteur]
Laszcz, A. [Auteur]
Ratajczak, J. [Auteur]
Raskin, J.P. [Auteur]
Journal title :
Thin Solid Films
Pages :
4501-4505
Publisher :
Elsevier
Publication date :
2012
ISSN :
0040-6090
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :
Files
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