Title :

Comparative study of erbium disilicide thin films grown in situ under ultrahigh vacuum or ex situ with a capping layer

Author(s) :

Reckinger, N. [Auteur]
Dutu, C.A. [Auteur]
Tang, Xing [Auteur]
Dubois, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Yarekha, Dmitri [Auteur]
Godey, S. [Auteur]
Nougaret, L. [Auteur]
Laszcz, A. [Auteur]
Ratajczak, J. [Auteur]
Raskin, J.P. [Auteur]

Journal title :

Thin Solid Films

Pages :

4501-4505

Publisher :

Elsevier

Publication date :

2012

ISSN :

0040-6090

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Non spécifiée

Popular science :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

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