Metallic source/drain architecture for ...
Document type :
Communication dans un congrès avec actes
Title :
Metallic source/drain architecture for advanced MOS technology : an overview of METAMOS results
Author(s) :
Dubois, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Larrieu, G. [Auteur]
Breil, N. [Auteur]
Valentin, R. [Auteur]
Danneville, François [Auteur]
Yarekha, Dmytro [Auteur]
Reckinger, N. [Auteur]
Tang, Xing [Auteur]
Halimaoui, A. [Auteur]
Rengel, R. [Auteur]
Pascual, E. [Auteur]
Pouydebasque, A. [Auteur]
Wallart, Xavier [Auteur]
Godey, Sylvie [Auteur]
Ratajczak, J. [Auteur]
Laszcz, A. [Auteur]
Katcki, J. [Auteur]
Raskin, J.P. [Auteur]
Dambrine, Gilles [Auteur]
Cros, A. [Auteur]
Skotnicki, T. [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Larrieu, G. [Auteur]
Breil, N. [Auteur]
Valentin, R. [Auteur]
Danneville, François [Auteur]

Yarekha, Dmytro [Auteur]

Reckinger, N. [Auteur]
Tang, Xing [Auteur]
Halimaoui, A. [Auteur]
Rengel, R. [Auteur]
Pascual, E. [Auteur]
Pouydebasque, A. [Auteur]
Wallart, Xavier [Auteur]

Godey, Sylvie [Auteur]

Ratajczak, J. [Auteur]
Laszcz, A. [Auteur]
Katcki, J. [Auteur]
Raskin, J.P. [Auteur]
Dambrine, Gilles [Auteur]

Cros, A. [Auteur]
Skotnicki, T. [Auteur]
Conference title :
8th Symposium Diagnostics & Yield : Advanced Silicon Devices and Technologies for ULSI Era
City :
Warsaw
Country :
Pologne
Start date of the conference :
2009
Book title :
_
Publication date :
2009
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :