Optimization of SiNX:H films deposited by ...
Document type :
Article dans une revue scientifique
Title :
Optimization of SiNX:H films deposited by PECVD for reliability of electronic, microsystems and optical applications
Author(s) :
Herth, E. [Auteur]
Legrand, Bernard [Auteur]
Buchaillot, L. [Auteur]
Rolland, N. [Auteur]
Lasri, T. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Legrand, Bernard [Auteur]
Buchaillot, L. [Auteur]
Rolland, N. [Auteur]
Lasri, T. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Journal title :
Microelectronics Reliability
Pages :
1103-1106
Publisher :
Elsevier
Publication date :
2010
ISSN :
0026-2714
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :
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