Title :

Optimization of SiNX:H films deposited by PECVD for reliability of electronic, microsystems and optical applications

Author(s) :

Herth, E. [Auteur]
Legrand, Bernard [Auteur]
Buchaillot, L. [Auteur]
Rolland, N. [Auteur]
Lasri, T. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Journal title :

Microelectronics Reliability

Pages :

1103-1106

Publisher :

Elsevier

Publication date :

2010

ISSN :

0026-2714

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Non spécifiée

Popular science :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL